第435章 芯片自研自产！收购中芯国际的晶圆厂？ (第3/5页)
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投入，当做最核心的项目去突破。”
赵老叹了口气：“过去，种种因素决定，我们对于半导体，对于光刻机的投入，都不够大。但现在，彻底变了。”
最初，王逸托秦主任送上去的那份报告，引起了部分关注，但是很有限，很快就被束之高阁。
后来，星逸手机热销，秦主任拿着那份报告再度找上老领导赵老，苦口婆心地劝谏。
赵老也觉得星逸科技有前途，再度在顶层会议上提出那份报告。
这一次，有部级领导的亲自背书，再加上星逸科技不断做大，成为顶级巨头。
只能说，人的名，树的影。
之前的星逸科技是个新兴企业，上层关注度不够，再好的报告，也没多少重视。
可如今星逸科技成了国内顶级巨头，在国际上都所向披靡，干苹果，镇三星，打的htc找不到北。
可以说，早已今非昔比！
没有任何意外，这一次，王逸的那份报告引起顶层高度重视，以及众多要员和院士的全力支持。
光刻机、光刻胶等项目，也成功地被列入国家战略核心项目，要求相关机构联合攻坚，投入巨资突破。
如今星逸半导体实现了40纳米芯片的自研自产，王逸的分量变得更重。
那份报告的含金量也会更高，相关项目的研发和投入，也会更恐怖！
说白了，一切都实力说话。
前世，为什么那么支持华为？
就是因为华为有底蕴，有能力，有技术，能做到其他企业做不到的突破。
同样，星逸科技也展示出了恐怖的实力。
苹果、三星、高通都做不到的基带集成，星逸半导体做到了。
中芯国际那么多年都搞不定的40纳米工艺，星逸晶圆厂搞定了，试产良品率就高达89，后续只会更高。
华为都做不到的芯片自研自产，星逸科技做到了，还性能卓越。
如此成绩，全球都会震惊。
高层自然会高度关注，大力支持。
“王董，你放心，用不了几年，光刻机会突破，光刻胶也会突破！”赵老郑重道。
这年头的光刻机还是duv光刻机，不像euv光刻机那么难如登天，自然好突破。
同样，光刻机也只是28纳米，20纳米的中端光刻胶，不像前世5纳米，3纳米纳米的高端光刻胶那么困难。
说白了，当下和欧美的差距还很小。
因为王逸之前不知天高地厚的提议，官方提前布局，提前攻坚，完全可以在差距小的时候，提前追赶上欧美，甚至弯道超车。
前世，落后得太多。
那时候，欧美euv都更新了好几代，并且投用了多年，咱们才奋起直追duv光刻机，自然难。
可这一次，大家都还是duv，那就简单了。
至于阿斯麦的euv，目前还不成熟，正式投用还得好几年。
因为王逸的提议，提前追赶，前途可期。
“那再好不过，我相信国家机器的力量。”王逸笑说。
像是duv光刻机，星逸科技要做，十年都难。
官方要做，有国家机器全力支持，五年就差不多搞定14纳米的duv。
后续不断迭代升级，逐步提高精准度，达到10纳米，7纳米，不在话下。
毕竟阿斯麦2003年推出了第一代浸没式duv1250i，最初也是造45纳米芯片的。
后续不断对duv光刻机的光源、光学系统、套刻精度、温控等方面，进行全方位升级。
这才逐渐实现了32-28纳米工艺，以及后续的20-16纳米工艺，再到10纳米节点、7纳米节点，以及十年后的5纳米节点。
前世duv国产光刻机之所以迟迟不量产，主要原因就是要求高，起步高。
若是只能量产45纳米，那意义不大，推出了也没多少企业用。
十年后，缺的是高端光刻机，不是45纳米的光刻机。
但要想量产7纳米，甚至5纳米，那难度就大了，国产duv都得不断升级。
因此，国产duv迟迟不推出，就是在憋大招。
不过这一次就无所谓了。
起步早，能量产28纳米，就算是非常成功。
甚至量产45纳米，王逸都会疯狂买买买。
毕竟未来五年内，45纳米都是主流芯片。
而28纳米和20纳米，都只是少量的旗舰芯片，只占少数。
相反，更多的芯片都是物美价廉的45纳米。
国产光刻机若是能量产45纳米，都会很有市场。
但若是十年后才推出45纳米的国产光刻机，那就难了。
毕竟十年后的45纳米，是真的没法用。
赵老话锋一转：“不过你们低调归低调，但该有的奖励一点不
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